ホーム
079-422-8833
HOME > システム製品一覧 > VM-H 真空蒸気加熱システム
真空蒸気加熱システム『バキュマイザー』は、100℃以下の温度域でも従来の蒸気加熱と同等の、均一で素早い加熱ができます。高度な温度精度が要求されるファインケミカル分野を中心に、重合・晶析・ 濃縮・反応と様々なプロセスに活用されています。特に100℃以下の低温濃縮、乾燥用途がプロセスのボトルネックになるケースでは、大幅なサイクルタイム短縮に寄与しています。
■業種
食品/化学/医薬/ゴム/繊維/鉄鋼
■工程
反応/重合/晶析/濃縮/溶解/蒸留/乾燥/加温/殺菌
■装置
反応釜/濃縮釜/コニカルドライヤー/カレンダーロール/エンボスロール乳化釜/晶析槽/金型プレス/真空乾燥機/リボン乾燥機/円錐型乾燥機
100℃以下の低温加熱のニーズ・課題
収率向上を目的とした加熱温度制御精度の向上
- 反応・濃縮工程のローカルヒート(局部過熱)を防止し、焦げ・変色を防止したい
- 反応温度まで素早く昇温して不純物の生成を減らしたい
- 晶析工程(加熱濃縮)の加熱温度を均一にし、結晶の粒径分布を鋭くしたい
- 過加熱による突沸現象を解消したい
設定温度±1℃以内の安定した熱源を供給
- 最適温度での加熱で、品質不良の原因となる生産物の過加熱を排除
蒸気ならではの均一な加熱を実現
- 真空蒸気の特長である、均一でムラのない加熱が、焦げなどの製品不良を防止
生産(工程)時間の短縮
- 製品が熱に不安定で、温水や熱媒等で加熱するケースのサイクルタイムを短縮したい
- 温水を熱源とする乾燥工程が、プロセスのボトルネックになっているため、もっと効率的に改善したい
1.7倍(注)のU値を実現
- 温水・熱媒加熱に比べ総括伝熱係数(U値)は1.7倍(注)、加熱時間では約33％の短縮を実現。
- 供給蒸気温度が安定するまでの時間も約1/4とスピーディーで、設定温度の変更も瞬時に切替えることができるため、歩留まり向上に貢献。
-
温水や正圧の蒸気では困難だった、100℃前後の熱源を安定して供給することが可能。
(注) 生産物・設備の諸条件により異なります。
経済性・環境面の向上
- カレンダーロールの誘電ロールを新設したいが、同時にコスト削減も実現したい
- 大きなタンクを複数設置することなく、シンプルなものにしたい
- 温水タンクからの放熱やオーバーフローによる熱ロス、作業環境の改善を実施したい
省エネ(約22％(注1)カット)・省スペース・作業環境改善
- 温水加熱に比べて約20％(注1)の熱エネルギーを節約でき、また消費電力においても約30％(注1)の削減を実現。
- 低温(30℃)から高温(150℃(注2))までの用途でも、熱源を蒸気一本で供給することができ、さらにシステムをコンパクトにパッケージ化することで省スペースを実現。
- 蒸気のクローズド使用により湯気のモヤモヤ等を解消。
| (注1) | 運転条件 加熱量：150kW、加熱源温度：70℃の一般的な温水加熱設備との比較です。 | |
| (注2) | オプション | |
システム構成
基本仕様
| 供給蒸気温度範囲 | 30℃(注1)〜110℃(150℃(注2)) |
| 最大加熱量 | 2600kW（2240Mcal/h） |
| 最大供給蒸気量 | 4500kg/h |
| 熱源温度精度 | 設定温度±1℃ |
| タイプ（型式） | ・パッケージタイプ VM1HP / VM3HP / VM4HP ・エンジニアリングタイプ |
| (注1) | 補給水温度が5℃以上の場合、供給蒸気温度の最小値は補給水の温度に依存し、補給水温度+25℃となります。VM1HPの供給蒸気温度範囲は40℃〜となります。 | |
| (注2) | オプション | |
システムカバーレンジ
VM-Hと温水による制御性比較グラフ
温水加熱方式に比べ、素早く設定温度に到達するスピーディーな加熱と、ムラのない均一な加熱を実現
