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HOME > システム製品一覧 > VM-HC 真空蒸気加熱・気化冷却システム
従来の蒸気加熱を、100℃以下の温度域へ展開できたのは真空技術によるものです。これにより、広く低温加熱の温度制御にも貢献できるようになりました。
さらに、気化冷却は、真空域で水の気化を促進させることで、蒸気加熱に匹敵する伝熱性能を冷却側で実現させました。この真空蒸気加熱と気化冷却技術を組合せることで、素早い加熱・冷却の切替えが可能となり、高精度な温度制御が実現できたのです。
■業種
化学/医薬/ゴム/繊維
■工程
反応/重合/晶析/溶解/成形/凝縮
■装置
反応釜/成形機/凝縮機
加熱・冷却を繰り返すプロセスのニーズ・課題
高品質・安定化のために高い再現性・制御性を実現
-
内温変化要因に素早く対応したい
(原料の滴下投入、発熱反応、吸熱反応、攪拌熱) - ユーティリティーの種類が多く、切替えタイムラグ間の温度バラツキをなくしたい
高精度制御 ±0.5℃(注1)を実現(±0.2℃の再現性)
- 加熱・冷却の切替えがスピーディーに行えるので、従来成し得なかった生産物温度の高精度制御を達成
- 熱媒・蒸気・水等を用いた加熱冷却のユーティリティーを一本化できることにより、システムのシンプル化と制御精度の向上を実現
- (注1)
制御対象は水と同物性で、設定温度は40〜90℃、50〜1,600リットル ジャケット攪拌槽における温度制御実績です
新製品開発や生産条件変更のスピードアップ
- 新製品のパイロット化や実生産に向けて、プロセス条件を早く決定したい
- 新製品開発のために、生産条件を複数試したい
操作性向上で多様な要求に対応
- 複雑な温度パターンの設定や、長時間に渡る連続自動運転も個別プログラミングで対応可能
冷却能力の向上
- 速く均一な冷却により、不純物の生成を減らしたい
- 発熱反応を抑える大きな冷却能力により、増産に取り組みたい
- 速く冷却を行うことで、工程サイクルタイムの短縮を図りたい
気化冷却方式による高い冷却能力
- 気化熱を奪う冷却方式を採用しているため、水冷却に比べて総括伝熱係数(U値)は1.7倍(注)。冷却時間では約35％短縮を実現
(注) 生産物・設備の諸条件により異なります
システム構成
基本仕様
| 制御温度範囲(注1) | 10℃〜120℃ | |
| 制御精度 | ±0.5℃(注2) | |
| 真空蒸気加熱 | 供給蒸気温度範囲 | 30℃(注3)〜150℃ |
| 最大加熱量 | 2600kW (2240Mcal/h) | |
| 最大供給蒸気量 | 4500kg/h | |
| 熱源温度精度 | 設定温度±1℃ | |
| 真空気化冷却 | 冷却温度範囲 | 10(注4)〜90℃ |
| 最大冷却熱量(注5) | 560kW (480Mcal/h) | |
| 境膜伝熱係数 | 5kW/m2K (4300kcal/m2h℃)以上 | |
| (注1) | 制御対象物温度の制御範囲を示します | |
| (注2) | 制御対象物は水と同物性で、設定温度は40〜90℃、50〜1600リットルジャケット攪拌槽における温度制御実績です。試運転時に、±1.0℃の制御温度精度内（制御対象：水）に調整してお引渡しいたします。 | |
| (注3) | 供給蒸気温度の下限値は、真空発生ユニットへの補給水温度+25℃となります。すなわち、30℃の蒸気を供給する場合は、5℃の補給水が必要です。 | |
| (注4) | 冷却温度の下限値は、真空発生ユニットへの補給水温度+5℃となります。すなわち、10℃の冷却を行なう場合は、5℃の補給水が必要です。 | |
| (注5) | 最大冷却熱量は参考値です。実際の冷却熱量は貴社温調プロセス温度、装置の伝熱面積や仕様により異なります。 | |
システムカバーレンジ
VM-HCによる生産物温度制御グラフ
加熱・冷却の切替えが瞬時に行え、オーバーシュートのない、安定した温度制御を実現
