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システム製品

食品・飲料工場向け真空蒸気加熱システム

VM2HU

食品・飲料工場の40~90℃加熱に!
焦げ付き・ムラなく時間短縮

100℃以下でも飽和蒸気を使用して急速加熱、均一加熱を行うことができる真空蒸気加熱システム バキュマイザーにコンパクトで低コストの新シリーズが登場しました。
真空発生ユニットで系内を大気圧以下に減圧し、真空蒸気(100℃以下の飽和蒸気)を生成。 食品・飲料工場に多い40~90℃の加熱を焦げ付きや加熱ムラなくスピーディーに行い、約30%消費電力削減を実現しました(加熱能力が同等の温水加熱システムと比較)。
400Lまでの加熱釜、反応槽などに。飽和蒸気の優れた特性をいかした加熱で、製品の歩留まり改善、昇温時間短縮を図り、品質向上や生産性向上に効果があります。

特長

  • 蒸気を負圧域まで減圧し、100°C以下の加熱源として使用
  • 蒸気でありながら、温水と同じ温度で加熱できるため焦げ付きなし
  • 温水循環ではできない、蒸気ならではの急速かつ均一な加熱を実現
  • ± 1°Cの安定した温度の熱源を供給するため加熱ムラなし
  • 温水循環に比べて熱源温度の素早い設定変更が可能
  • 生産物の温度入力を受け、自動で温度変更も可能
  • 消費電力約30%削減(同等の加熱能力を持つ加熱温度70℃の温水加熱システムと比較)
  • タッチパネルで簡単操作
  • 制御盤も含めた必要機器が全てパッケージされ、設置しやすくコンパクト
  • 制御盤は段階加熱制御機能や、真空引き時間短縮機能、データログ機能を装備

用途

  • 食品工場、飲料工場などのジャケット撹拌槽(内容量:~400L)の低温加熱
    (加熱釜、濃縮釜、培養釜、乾燥釜、混錬釜、乳化釜、反応釜など)
  • 各種熱交換器の低温加熱

仕様

型式 外観写真 供給蒸気温度範囲質 最大供給可能蒸気量 最大供給可能熱量 供給蒸気温度精度 製品
仕様書
カタログ
VM2HU 40℃(注1)~110℃ 390kg/h 225kW
(190Mcal/h)
設定温度±1℃ 製品仕様書 カタログ

(注1) 供給蒸気温度の下限値は、真空発生ユニットへの補給水温度+25℃となります。すなわち、70℃の蒸気を供給する場合は、45℃の補給水が必要です。

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