100℃以下でも飽和蒸気を使用して加熱をおこなうためのシステムです。
真空発生ユニットで系内を大気圧以下に減圧し、正圧の蒸気を制御弁で減圧して真空蒸気（100℃以下の飽和蒸気）を生成します。 飽和蒸気の優れた特性をいかした加熱ができるため、温度ムラの解消により、焦げ付きや突沸を防止し、昇温のスピードアップを図ることできます。品質向上や歩留まり・生産性向上に効果的です。

従来の水冷却に代わり、水が蒸発する際の気化熱（潜熱）を奪うことにより冷却を行う真空気化冷却システムと、真空蒸気加熱システムを組み合せることで高精度に生産物の温度コントロールを実現します。

通常100℃以下の温度域の加熱には温水が多く使用されますが、真空技術を利用すると、熱源である蒸気の温度そのものを60℃や90℃にすることができます。この蒸気で加熱を行うためのシステムが真空蒸気加熱システムです。
※上記は真空蒸気加熱システムの原理のサマリーです。