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システム製品

食品・飲料工場向け真空蒸気加熱システム

VM2HU

ラインアップ

タイプ(型式) 用途 特長
パッケージ
タイプ
VM1HP

単装置の生産プロセスやパイロットプラント

対象装置

  • ジャケット反応槽(内容量:~400L)
  • 制御盤も含めた必要機器が全てパッケージ
  • タッチパネルで簡単操作
  • 生産物の温度入力を受け、自動で温度変更も可能
  • 制御盤は段階加熱制御機能や、真空引き時間短縮機能、データログ機能を装備
VM3HPN

単装置の生産プロセスやパイロットプラント

対象装置

  • ジャケット反応槽(内容量:~ 10m3
  • シェル&チューブ式熱交換器
  • 温風式乾燥機 ・ロール加熱機 など
  • 必要機器が全てパッケージされ、配管・電気工事が容易
  • 制御盤は段階加熱制御機能やレシピ加熱制御機能、真空引き時間短縮機能、データログ機能を装備(VM3HPN)
  • タッチパネルで簡単操作(VM3HPN)
  • 最大3装置用の真空蒸気供給ラインが組込まれており同時に3つの異なる温度蒸気供給が可能(VM4HP)
VHPM

複数装置の生産プロセスやパイロットプラント

対象装置

  • ジャケット反応槽(1装置あたりの内容量:~ 7m3
  • シェル&チューブ式熱交換器(シェル容積:~ 30m3
エンジニアリングタイプ

生産プロセス

対象装置

  • ジャケット反応槽 ・シェル&チューブ式熱交換器 ・ロール加熱機 など
  • 要求仕様に合わせた、自由なシステム設計が可能

段階加熱制御機能で立ち上げ時間を短縮

VM2HUとVM3HPNには蒸気温度を3段階に変化させて昇温時間を短縮できる段階加熱制御機能を装備

グラフ-急速加熱機能で立ち上げ時間を短縮

均一でムラのない潜熱加熱で、目標温度到達までの時間を短縮。

  • (1) 初期は90℃の蒸気で急速加熱
  • (2) 製品温度が「目標温度-5℃(75℃)」に到達
  • (3) 供給蒸気温度の設定を94℃→85℃に自動変更
  • (4) 被加熱物温度が「目標温度-1℃(79℃)」に到達
  • (5) 熱源蒸気温度の設定を85℃→82℃に自動変更

また、VM2HUとVM3HPNには真空引き時間短縮機能を装備。
ポンプ起動と同時に強制的に微圧蒸気を供給することにより、エゼクターと装置内の差圧を大きくし、装置内のエア・ドレンを排出しやすくします。
初期の真空引きの時間を短縮することで、装置の立ち上がり時間を早くすることが可能です。

運転データの記録

VM2HU と VM3HPN は、各種の運転データを保存でき、安全管理や計画保全、生産条件の記録などに活用することができます。
データログ項目:蒸気温度/蒸気圧力/タンク水温/生産物温度/制御弁開度(ポンプ吐出圧力/ポンプ電流値)

  • ※:( )は VM3HPN のみ

 

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