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    システム製品

    真空蒸気加熱システム

    VM-Hシリーズ

    高機能・ヒット商品を支える温度制御
    全ての温度域OKの迅速・高精度な蒸気加熱

    話題の新薬、高機能素材、誰もが知っているヒット商品・・・。これらの生産に欠かせないのが高精度な温度制御です。その温度制御を可能にするのが高精度でスピーディーな加熱が可能な蒸気。
    「焦げ付き」「突沸」「歩留まりが悪い」「生産性を上げたい」そのようなお悩みも、100℃以下の蒸気を使って高精度な加熱ができる「真空蒸気加熱・気化冷却システム VACUUMIZER(バキュマイザー)」が解決します。生産物の品質向上、歩留まり・生産性向上が可能で、生産効率がアップすることにより、生産コストの低減にも貢献します。

    真空蒸気加熱・気化冷却システムで生産されている製品

    真空蒸気加熱・気化冷却システムは、究極の温度コントロールや100℃以下での加熱を必要とする工程で使われ、最先端素材や生活に欠かせない製品の品質向上に貢献しています。

    真空蒸気加熱・気化冷却システムで生産されている製品

    樹脂積層板
    • プリント基板用
    化成品原料
    • 紫外線吸収剤
    • 加硫添加剤
    電子材料
    • フォトレジスト
    樹脂原料
    • ポリイミド
    • カプロラクタム
    接着剤原料
    • アクリル酸エステル
    樹脂成形
    • 人工大理石
    • FRP成形
    樹脂フイルム
    • 光学フイルム
    • ボトル用シュリンクフィルム
    • リチウムイオン二次電池用セパレーター
    • 再帰反射フイルム
    医薬品原料
    農薬原料
    不織布

    このようなお悩みはありませんか?

    反応
    • 滴下反応時の再現性を高めたい
    • 発泡性製品の突沸を防ぎたい
    • 製品の変色を防ぎたい
    • 効率をアップして生産量を増やしたい
    • 収率を向上させたい
    (代表的な装置)

    反応釜

    • ジャケット釜
    • ジャケットタンク

    乳化釜

    • ジャケット釜
    • ジャケットタンク

    濃縮
    • 熱に弱い原料の時のサイクルタイムを短縮したい
    • 局部過熱(ローカルヒート)による焦げ付きを防止したい
    • 突沸現象を解消したい
    • 再濃縮量を低減したい
    (代表的な装置)

    濃縮釜

    • ジャケット釜
    • ジャケットタンク

    リボイラー

    • シェル&チューブ

    晶析
    • 結晶の粒径分布を鋭くしたい
    • 不純物の生成を減らしたい
    (代表的な装置)

    晶析釜

    • ジャケット釜
    • ジャケットタンク

    乾燥
    • 乾燥時間を短縮したい
    • 製品同士の癒着を減らしたい
    (代表的な装置)
    • ナウタミキサー
    • コニカルドライヤー
    • エロフィンヒーター
    • 誘電ロール
    • シリンダードライヤー

    これらのお悩みを解決するのが「真空蒸気加熱・気化冷却システム」です

    真空蒸気加熱・気化冷却システム

    TLVでは500システム以上の納入実績を通じて得られた経験から、お客様の運転条件、工程や装置の特長などに合わせて最適なバキュマイザーを提案させていただきます。

    バキュマイザーが適用可能かどうかわからない段階でもお気軽にご相談ください。

    TLVの本社工場では100Lジャケット攪拌槽を用いた実機検証実験もできます。各種条件における運転シミュレーションが可能ですので、検討材料としてご利用いただけます。

    真空蒸気加熱システム VM-H

    100℃以下でも飽和蒸気を使用して加熱をおこなうためのシステムです。
    真空発生ユニットで系内を大気圧以下に減圧し、正圧の蒸気を制御弁で減圧して真空蒸気(100℃以下の飽和蒸気)を生成します。 飽和蒸気の優れた特性をいかした加熱ができるため、温度ムラの解消により、焦げ付きや突沸を防止し、昇温のスピードアップを図ることできます。品質向上や歩留まり・生産性向上に効果的です。

    真空蒸気加熱システム VM-H

    真空蒸気加熱・気化冷却システム VM-HC

    従来の水冷却に代わり、水が蒸発する際の気化熱(潜熱)を奪うことにより冷却を行う真空気化冷却システムと、真空蒸気加熱システムを組み合せることで高精度に生産物の温度コントロールを実現します。

    真空蒸気加熱・気化冷却システム VM-HC

    真空蒸気加熱・気化冷却システム(VACUUMIZER)の原理

    通常100℃以下の温度域の加熱には温水が多く使用されますが、真空技術を利用すると、熱源である蒸気の温度そのものを60℃や90℃にすることができます。この蒸気で加熱を行うためのシステムが真空蒸気加熱システムです。
    ※上記は真空蒸気加熱システムの原理のサマリーです。

    真空蒸気加熱・気化冷却システム(VACUUMIZER)とはの原理

    VM-Hと温水による制御性比較グラフ

    温水加熱方式に比べ、素早く設定温度に到達するスピーディーな加熱と、ムラのない均一な加熱を実現

    VM-Hと温水による制御性比較グラフ

    製品関連情報