100℃以下の蒸気 後編(真空蒸気加熱システム) | 蒸気のことならテイエルブイ
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蒸気の制御

100℃以下の蒸気 後編(真空蒸気加熱システム)

真空蒸気加熱システムとは?

間接加熱利用で、60℃や90℃などの熱源温度が必要な場合は、温水を循環させる方式がよく用いられますが、蒸気でもこれらの温度域の加熱ができます。

100℃以下の蒸気 前編(真空蒸気とは?)にもある通り、大気圧以下の飽和蒸気では、熱源である蒸気の温度そのものが60℃や90℃になります。

真空蒸気加熱システムは大気圧以下の飽和蒸気を加熱源として用いることができるシステムです。他の熱源に比べ、真空蒸気加熱システムには以下の特長があります。

  • 温度ムラのない均一な加熱ができる
  • 温水などに比べて素早い加熱ができる
  • 製品と熱源の温度差(ヒートショック)を小さくできる
  • 設備の省スペース化が図れる

真空蒸気加熱と温水加熱の違い

これらの特長は全て、真空蒸気が飽和蒸気であるということに基づいています。飽和蒸気であるため、蒸気で満たされている空間は温度が均一であり、蒸気から被加熱物へは、潜熱による素早い熱の受け渡しが行われます。

一方の温水加熱は、熱源である温水自体の温度が下がることで被加熱物に熱を与えるため、供給口付近と排出口付近の温水を比べると温度差が生じています。この温度差を小さくし必要な熱量を素速く供給するためには、温水の供給量(循環量)を莫大な量にしなければなりません。

真空蒸気加熱と温水加熱の違い

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